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dlc表面處理是什么工藝?
來源:技術(shù)支持 | 發(fā)布日期:2025-03-07

DLC表面處理即類金剛石碳(Diamond-Like Carbon)涂層工藝,是通過物理或化學(xué)方法在材料表面涂覆一層具有類似金剛石特性的非晶態(tài)碳膜的技術(shù)。具體介紹如下:

DLC表面處理

1.原理

DLC 涂層的結(jié)構(gòu)中含有金剛石結(jié)構(gòu)(sp³ 鍵)和石墨結(jié)構(gòu)(sp² 鍵)的亞穩(wěn)非晶態(tài)物質(zhì)。在制備過程中,通過物理或化學(xué)手段將碳源物質(zhì)轉(zhuǎn)化為碳原子或碳離子,然后使其沉積在基底材料表面,這些碳原子或碳離子通過化學(xué)鍵合形成具有特定性能的DLC薄膜。

 

2.制備方法

物理氣相沉積(PVD

濺射法:利用高能粒子轟擊碳靶材,使靶材表面的碳原子被濺射出來,在基底表面沉積形成 DLC 涂層。

電弧放電法:借助電弧放電產(chǎn)生的高溫,讓碳源物質(zhì)蒸發(fā)并在基底上沉積。

離子束沉積(IBAD):使用離子束轟擊碳源目標(biāo),釋放出碳離子,使其沉積在基底表面。

化學(xué)氣相沉積(CVD

熱解 CVD:在高溫條件下,將含碳的氣體如甲烷、乙炔等分解為碳原子,進(jìn)而沉積在基底表面。

光催化 CVD:利用光催化作用,促使含碳?xì)怏w在基底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成 DLC 涂層。

射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD):在沉積過程中引入射頻等離子體,增強(qiáng)反應(yīng)活性,實(shí)現(xiàn)低溫下 DLC 薄膜的生長(zhǎng)。

 

3.特性

高硬度:DLC 涂層的硬度極高,維氏硬度可高達(dá) 8000-9000HV,接近天然金剛石的硬度,能有效提高材料表面的抗刮擦和耐磨性能。

低摩擦系數(shù):涂層表面光滑,摩擦系數(shù)通常小于 0.2,可減少機(jī)械部件之間的摩擦和磨損,降低能量損耗。

耐腐蝕:具有良好的化學(xué)惰性,在酸、堿等化學(xué)腐蝕介質(zhì)中表現(xiàn)出較高的穩(wěn)定性,能保護(hù)基材不受環(huán)境因素的影響。

生物相容性好:無細(xì)胞毒性,適合用于制作醫(yī)療器械,在醫(yī)療領(lǐng)域如人工關(guān)節(jié)、植入物等方面有廣泛應(yīng)用前景。

光學(xué)性能優(yōu)良:高透明且具有良好的紅外透過率,在光學(xué)元件表面涂層方面具有潛在應(yīng)用價(jià)值。

 

DLC涂層

 

4.應(yīng)用領(lǐng)域

汽車領(lǐng)域:用于發(fā)動(dòng)機(jī)、傳動(dòng)系統(tǒng)、剎車系統(tǒng)、離合器等部件,可增強(qiáng)耐磨性,延長(zhǎng)使用壽命,提高發(fā)動(dòng)機(jī)效率,減少噪音。

航空領(lǐng)域:能在航空零部件表面形成保護(hù),降低機(jī)械磨損和氧化腐蝕,提高使用壽命和可靠性,減少維護(hù)成本。

醫(yī)療領(lǐng)域:可用于醫(yī)療器械表面涂層,提高潤(rùn)滑性和抗菌性,降低手術(shù)感染風(fēng)險(xiǎn),還適用于生物醫(yī)學(xué)設(shè)備、人工關(guān)節(jié)、植入物等。

機(jī)械制造領(lǐng)域:能提高傳動(dòng)系統(tǒng)、齒輪、軸承、機(jī)器刀具等機(jī)械制造部件的耐磨性和耐腐蝕性,減少維護(hù)成本。

電子領(lǐng)域:可作為電子芯片、納米器件等表面的涂層,提高抗靜電和耐磨性能。

光學(xué)領(lǐng)域:用于光學(xué)元件表面,可改善抗反射、硬度和耐磨性。

【責(zé)任編輯】小編

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