當(dāng)手術(shù)機(jī)器人在精細(xì)操作時(shí)遭遇靜電干擾,可能導(dǎo)致手術(shù)精準(zhǔn)度大打折扣,危及患者生命;當(dāng)光刻機(jī)因靜電吸附塵埃,芯片良率會(huì)暴跌,給企業(yè)帶來(lái)巨大經(jīng)濟(jì)損失——靜電放電(ESD)已成為高端制造領(lǐng)域難以忽視的共性難題。在這場(chǎng)與靜電的較量中,納隆科技憑借其創(chuàng)新的防靜電DLC鍍層技術(shù),在半導(dǎo)體、醫(yī)療器械、精密儀器三大關(guān)鍵領(lǐng)域筑起了一道堅(jiān)不可摧的防護(hù)長(zhǎng)城。
在半導(dǎo)體“芯”防護(hù)領(lǐng)域,納隆科技的表現(xiàn)堪稱(chēng)卓越。晶圓夾具作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵部件,其性能直接影響芯片的良率。采用納隆防靜電DLC鍍層后,晶圓夾具的ESD故障率大幅下降了90%。這一顯著成效得益于鍍層的導(dǎo)電特性,它能夠迅速將靜電荷導(dǎo)走,避免電荷在夾具表面累積,從而有效防止了靜電放電現(xiàn)象的發(fā)生。同時(shí),該鍍層還具備小于0.1的極低摩擦系數(shù),大大減少了夾具在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中微粒的產(chǎn)生。在28nm以下先進(jìn)制程中,微粒污染是影響芯片良率的關(guān)鍵因素之一,納隆鍍層的應(yīng)用助力半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)現(xiàn)了良率的突破,為芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了強(qiáng)大動(dòng)力。
在醫(yī)療器械領(lǐng)域,納隆防靜電DLC鍍層同樣發(fā)揮著重要作用。手術(shù)器械、植入式設(shè)備等對(duì)靜電極為敏感,靜電不僅可能干擾設(shè)備的正常運(yùn)行,還可能對(duì)患者造成潛在危害。納隆鍍層為這些醫(yī)療器械提供了可靠的靜電防護(hù),確保了手術(shù)的安全性和設(shè)備的穩(wěn)定性。例如,在一些精密的手術(shù)機(jī)器人中,納隆鍍層的應(yīng)用有效避免了靜電對(duì)機(jī)器人傳感器的干擾,提高了手術(shù)的精準(zhǔn)度和成功率。
在精密儀器領(lǐng)域,納隆防靜電DLC鍍層也展現(xiàn)出了獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。光學(xué)儀器、電子顯微鏡等精密設(shè)備對(duì)環(huán)境的潔凈度和穩(wěn)定性要求極高,靜電吸附的塵埃會(huì)嚴(yán)重影響設(shè)備的性能和成像質(zhì)量。納隆鍍層的防靜電特性能夠有效減少塵埃的吸附,保持設(shè)備的清潔和穩(wěn)定運(yùn)行。同時(shí),其高硬度和耐磨性也延長(zhǎng)了設(shè)備零部件的使用壽命,降低了企業(yè)的維護(hù)成本。
納隆科技的防靜電DLC鍍層技術(shù),以其卓越的性能和廣泛的應(yīng)用前景,成為了高端制造領(lǐng)域的“守護(hù)者”。它不僅解決了靜電放電這一共性難題,還為各行業(yè)的發(fā)展提供了有力的技術(shù)支持。未來(lái),隨著高端制造技術(shù)的不斷進(jìn)步,納隆科技將繼續(xù)深耕這一領(lǐng)域,不斷創(chuàng)新和完善技術(shù),為守護(hù)高端制造生命線貢獻(xiàn)更多的力量。
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