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一、真空鍍膜工藝的定義與核心原理

定義：真空鍍膜是在真空環(huán)境下，通過物理或化學(xué)方法將材料沉積在基片表面形成薄膜的技術(shù)。其核心優(yōu)勢在于薄膜均勻性、致密性和附著力遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)鍍膜方法。

核心原理：
在真空環(huán)境中（通常氣壓低于 10?³ Pa），材料原子 / 分子的平均自由程增大，可避免與氣體分子碰撞導(dǎo)致的散射，從而精準(zhǔn)沉積到基片表面。根據(jù)沉積機(jī)制，主要分為兩大類：

物理氣相沉積：通過物理手段（如加熱、濺射）使材料氣化，再冷凝沉積。

化學(xué)氣相沉積：通過氣態(tài)反應(yīng)物在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)產(chǎn)物沉積。

二、真空鍍膜的典型應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)領(lǐng)域

增透膜（減少鏡片反光）、高反膜（激光腔鏡）、濾光膜（相機(jī)濾鏡）。

例：相機(jī)鏡頭表面的多層鍍膜可提高透光率，減少眩光。

電子與半導(dǎo)體

芯片電極（濺射沉積鋁 / 銅膜）、絕緣層（PECVD 沉積 SiO?）、太陽能電池電極（蒸鍍銀漿）。

例：硅片上沉積納米級的柵極氧化層（厚度僅幾納米）。

機(jī)械與功能涂層

刀具涂層（TiN、TiAlN，提高硬度和耐磨性）、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)耐磨涂層。

例：數(shù)控刀具表面的金色 TiN 涂層可使壽命延長 3-5 倍。

裝飾與環(huán)保

手表、首飾的仿金鍍層（濺射沉積氮化鈦）、建筑玻璃的低輻射（Low-E）膜。

例：建筑玻璃鍍上多層金屬氧化物膜，可反射紅外光，降低空調(diào)能耗。

新能源領(lǐng)域

鋰離子電池電極薄膜（磁控濺射沉積鋰鈷氧化物）、氫燃料電池催化層。

三、真空鍍膜工藝的優(yōu)勢與流程

優(yōu)勢

環(huán)保性：無需溶劑，減少化學(xué)污染（對比電鍍工藝）。

高精度：膜厚可控制在納米級（如 10nm 以下），適合微電子器件。

材料兼容性廣：可在金屬、陶瓷、塑料、玻璃等基片上鍍膜。

基本流程

基片預(yù)處理：清洗（去除油污、氧化物）、拋光，確保表面潔凈。

真空鍍膜：根據(jù)工藝類型，將材料氣化或通過化學(xué)反應(yīng)沉積。

后處理：退火（改善膜層應(yīng)力）、檢測（膜厚、附著力、成分分析）。